造原子弹和光刻机哪个更难？为什么荷兰有人说图纸给我们也造不出来？

不吹牛的说，市面上存在的东西就没有我们造不出来的，荷兰人这句话说得有点过了，而且荷兰人已经被打脸了。

白手起家制造原子弹

很多人认为制造光刻机比制造原子弹要难得多，导致越来越多的人认为原子弹很容易制造的假象，其实绝非如此，中国第一颗原子弹耗费了大量的人力、物力、财力。

1955年，新中国成立几年时间，科技实力和经济水平十分的薄弱，但是没有阻挡住中国人制造原子弹的决心。

中国的原子弹工程又称“596计划”，因为在1959年6月苏联单方面撕毁中苏国防新技术的协定，并撤走了专家，带走了设备和图纸，为了纪念这个艰苦的岁月，命名为“596计划”。

原子弹是一个庞大的系统工程，包括科研、设计、制造、生产、试验等许多环节，参与的人数也达到了30万，除了钱学森、邓稼先等科学家外，还有数万名技术工作者、工程师、民兵、工人和后勤人员等。

制造原子弹最为关键的就是原材料—铀

铀是原材料必须的材料，技术和原料都是高度机密，而且铀十分昂贵，当时1公斤铀价值1500万美元。而当时中国GDP仅为900亿人民币。

第一步就是出动地质队，全国各地、深山老林中寻找铀矿，经过不懈的努力，最后终于在华中地区探测到了铀矿。

随后由工程师、技术人员、工人等组成的0万人的庞大队伍，开始开采铀矿，按照一枚原子弹需要15公斤铀计算，就要开采出3000吨高品质铀矿。

10万人用了10年的时间，终于制造出了2块铀坯。

铀坯制造出后，还需要加工，以当时的设备和技术，制造工艺绝不亚于现在生产芯片的难度。

加工过程由3人操作：

第一人主刀：每车一刀，厚度仅有头发丝的十分之一。

第二人为监护：提醒主刀操作，同时及时拾起他车下的铀屑，防止其积聚在切削盘内，引起裂变链式反应。

第三人负责测量，主刀每车三刀，他就要测量一次，看看还差多少，还要车多少刀。

当时的领导说了一句话，让所有人都紧张起来了，他说：同志们，铀-235铸件只有两套，一个都不能有任何的损坏。这是我们的命根子，比我们的生命还重要。

主刀叫原公浦，他以精湛的技术，完成了使命，被称为“原三刀”。

车工完毕后，还有很多的工作要做。

10个核效应大队（科研、总后、海、陆、空、装甲、防化、铁道、工程、炮）需要在试验现场布置好楼房、车站、汽车、火车、飞机、坦克等各种效应物。

而爆炸后，还需要进行测试，需要有一批“敢死队”进入蘑菇云进行采样。

就是在极端艰苦的条件下，在百废待兴的时刻，几十万人用智慧、奉献、甚至鲜血制造出了新中国第一颗原子弹。

单从技术和精确度来看光刻机似乎比原子弹更难制造

光刻机又名曝光机，是生产大规模集成电路的关键设备，将电路结构临时"复制"到涂有光刻胶硅片上的过程，制造和维护需要高度的光学和精密制造技术。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。

目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机，这台光刻机可以生产出最先进的5nm制程芯片。

这台光刻机仅零部件就超过了十万个，螺栓数量超过4万个，3000多条线路，内部软管加起来，就有两公里长，设备重量达到了180吨，如此庞大精密的设备安装调试就需要几个月。

设备最精密的部件就是：镜头和光源

镜头：采用了德国蔡司镜头

蔡司是德国著名的光学仪器厂商，蔡司镜头历史悠久，品质优良，成为了行业中“高贵”的代名词，公司对镜头质量要求非常高。

一个镜片，如果工艺不同人打磨，光洁度相差十倍。因此，很多人在一个岗位上一干就是几十年，拥有几十年的技术和经验。

EUV光刻机采用的镜头要求：制作一个地球面积大小的镜头，误差在一根头发大小。

光源：采用了美国Cymer公司极紫外光

极紫外光是一种波长极短的光（仅为13nm），它是通过激光在特殊技术下产生的等离子源。

这种光源工作在真空环境下，产生紫外波长，然后由光学聚焦形成光束，光束经由用于扫描图形的反射掩膜版反射，由于极紫外光的固有特性，产生极紫外光的方式十分低效，能源转换效率只有 0.02% 左右。

除了镜头和光源外，工作环境也很重要

精密工作台，工作台要求：绝对稳定的工作环境，芯片的曝光必须在真空中，并且采取恒温技术，工作室的空气要比外界干净1万倍，工作台高速运动期间，系统不能振动。而光刻机要多的事情，就好比在真空、恒温、无尘、高速运动的环境中，在一粒米上雕刻清明上河图，机械动作误差为皮秒（百万分之一秒），这些基本都是挑战人类极限的工作。

这就是世界上最先进的光刻机—荷兰ASML公司的EUV光刻机，价格约为1.6亿欧元每台，折合人民币约12.5亿元，关键是有钱还不一定能够买到。

我国已经拥有光刻机，而且经济实力和技术实力大幅提高，造什么都不难，只要有决心。

1955年开始研究原子弹，当时国家GDP约为900亿元，中国人口总数约为6亿，平均受教育程度不足3年。

今天，我国GDP突破了100万亿，人口达到了14亿，平均受教育程度突破了10年。

北斗导航全面组网成功，天问一号登上火星，5G、高铁、量子计算、大飞机等纷纷问世，部分技术达到了世界领先。

1978年，是我国博士培养的起点，那一年仅仅招收了18名博士生，到了2017年已经累计招收博士生约115万人，现在，中国14亿多人口，博士占人口的比重为万分之5.7。

1955年，中国汽车保有量10.15万辆，大部分家庭没有汽车，很多地方的农村连一辆都没有。

2020年全国机动车保有量达3.72亿辆，其中汽车2.81亿辆；机动车驾驶人达4.56亿人，其中汽车驾驶人达4.18亿人。无论是城市还是农村，汽车已经不在稀奇，甚至很多地方，一个家庭没有汽车才算是稀奇的事情。

可以说无论从经济实力，科技发展、受教育程度都发生了巨大的变化，以目前的实力制造光刻机是完全可以实现的，只是时间的问题，那么我国的光刻机究竟有没有呢？

1、我们有国产光刻机吗？

答案是有，生产企业是上海微电子。

2、国产光刻机现在能做到什么程度？

我们在上海微电子官网可以看到，2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。

3、国产28纳米光刻机是什么情况？

知名媒体DIGITIMES曾报道，上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻机，该设备可实现28纳米工艺。

所以，基本上可以做实，上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知。

荷兰有人说图纸给我们也造不出光刻机来，这句话已经被否定了。

我国光刻机在精确度上与ASML的EUV光刻机仍有差距

我国的光刻机即将进入28nm，28nm能够达到什么水平呢？

严格意义来说，28nm真的算不上高水平，它的前面还有14nm、7nm、5nm、3nm。

但是28nm成熟工艺，可以生产日常生活中电子设备芯片，如：汽车、冰箱、空调、电梯等，而且28nm能够生产军用芯片，这些不需要太高的制造工艺，需要的是足够高的稳定性。

28nm芯片，如果用在手机上，那就差强人意了，甚至是无法使用，因为手机空间有限，需要散热、大容量电池等，那就对芯片尺寸有了很高的要求，也就需要更高的工艺水平，例如5nm、3nm制造工艺。

不同工艺生产出不同性能的芯片，我们以麒麟芯片为例来看一看：

• 麒麟950，16nm工艺制程，30亿个晶体管，4x2.3GHz A72+4x1.8GHz A53的架构；
• 麒麟990，7nm工艺制程，103亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心。
• 麒麟9000，5nm工艺制程，153亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心。

可以看出，随着工艺制程不断的升级，芯片的晶体管数量也在快速地增加，性能也不断的变强。

16nm工艺制程的芯片晶体管数量仅为5nm工艺的1/5，那么28nm与5nm的差距只会更大。

我国的光刻机需要多久能够达到世界先进水平呢？

以过去的经验来看，我国制造出世界领先的光刻机至少需要20至30年的时间，加上美国对技术和零部件的封锁，需要花费的时间会更长。

但是现在的时代是在飞速的发展，我们同样也要用发展的眼光去看待一件事，今天的中国无论是经济还是科技都已经上了几个台阶。

1955年，百废待兴，经济和科技十分落后，中国人咬着牙，硬是造出了原子弹，陈毅元帅的话说：“中国人就是没有裤子穿，也要造出原子弹”。1964年10月16日，中国第一颗原子弹在罗布泊爆炸成功。彻底打脸了苏联领导人赫鲁晓夫（赫鲁晓夫曾大言不惭地说中国离开苏联不可能研制成功原子弹）

然而，更为震惊的是不到3年时间，中国第一颗氢弹空爆试验成功，从第一颗原子弹到第一颗氢弹，白手起家的中国人只用了两年零八个月的时间，再次创造了奇迹。

1970年4月24日21时中国第一颗人造卫星"东方红一号"发射成功，由此开创了中国航天史的新纪元，使中国成为继苏、美、法、日之后世界上第五个独立研制并发射人造地球卫星的国家，又一次创造了奇迹，足见中国人可以创造更多的奇迹。

这就是著名的“两弹一星”工程，也由此产生了“两弹一星”精神，在这种精神下，我们将无往不利，攻坚克难。定能够攻破高端光刻机。

事实上，在该领域我们也在不断地突破：

2018年8月份，清华大学的研究团队研发出了双工作台光刻机，我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家。

无独有偶，2018年11月，中国科学院光电技术研究所承担的“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备采用365nm波长的紫外光单次成像，实现了22纳米的分辨率，结合双重曝光技术后，未来还有可能用于制造10nm级别的芯片。

紧接着，在2019年4月，武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队突破了光束衍射极限，采用远场光学的办法，成功刻出9nm线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，这个技术让我国打破了三维纳米制造的国外技术垄断。

近几年突飞猛进的科技水平，创造了无数的奇迹，相信在光刻机领域我们同样能够创造出奇迹。

根据研究机构IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告，预计到2024年，半导体制程格局将出现10nm以下，10-20nm，20nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为1/3。

28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场，在这四年内，我们的光刻机水平也定能够再上一个台阶。

问答总结

如果在1955年时候，制造一枚原子弹和制造5nm工艺光刻机哪个更难？毫无疑问是光刻机。

而时至今日，我国的科技和经济实力已经大大提升，在此基础上制造5nm工艺光刻机会比制造原子弹简单。

荷兰有人说图纸给我们也造不出光刻机来，这句话已经打脸了，因为我们已经拥有了光刻机，制造商为上海微电子，而且是纯国产，这一点上比ASML还要牛，因为它生产的光刻机是集合多国精尖技术于一身打造的，如果受到限制，也只能停产。

总之，我国已经拥有光刻机，而且在未来几年还会拥有更为先进的光刻机。

我是科技铭程，以上是我的回答，希望可以帮到您，如有不妥之处，敬请批评指正！

这个问题老梁来回答。

毫无疑问是原子弹。

估计这个答案一出来，有些小伙伴就要问了：“咱家原子弹都能整出来，氢弹那也是分分钟钟的事，那为嘛一台光刻机就整不出来呢？”

瞧您说的，这俩物件压根就没法比，原子弹那属于创新，以前没有，噗的一下，现在有了，是一个从无到有的过程。

您说难不难，这个世界上敲门砖是最难的。这也是为嘛全世界能整原子弹的国家也就那几个。

那么光刻机这玩意，他是个老物件，是在原有的基础上一步步的积累得到的，也就是说只要你有这东西，加上足够的时间，耗也能耗出来他。

咱家就有光刻机，只不过咱的技术只能攻克到28nm，供应个军队啦，基础建设啦，这一点问题都没有。但咱想整个7nm的，这就有点难度了，技术积累压根就没有到哪一步。

给咱点时间，咋也能耗出来，只不过现在要用这玩意，显的这东西就金贵了。

按照荷兰人的说法，他给咱图纸咱也弄不出来，这显然是一种不要脸的夸大行为，他但凡敢拿出来，咱还就不信了，提前整出来那也是很有可能的。

但也从他这句话当中，咱也能明白，这7nm的光刻机，技术肯定会占一块原因，但更大的原因不在技术上。

这就和当年苏联想要整出一台航空发动机，但卡在材料上一样，没法子啦？

那会西方和苏联的关系还没那么僵硬，还能够交流，于是苏联人就跑道英国的地盘购买人家的发动机，当然购买可不是关键。

关键是，还去人家的厂子里头参观，参观就算了，还专门穿一双软底鞋，目的就是踩点碎屑啥的整回去瞅瞅，那参观的队伍里头还有更加过分的，悄么兮的揣了人家一片零件给装口袋了。

回去没多久，材料这关苏联人就跨过去了。

这道理其实是一样的。

当然咱也不能想的那么简单，毕竟要是简单的话，咱早就整出来了，俺只是把这中间的道理给大家伙整明白了。

咱缺少的是时间，一层一层的积累这东西，不论是技术，还是材料，咱底蕴还不够，谁让咱下手晚了呢？

就拿咱辽宁舰来说，航母这东西，咱家以前就没有，但为嘛咱把辽宁舰拉回来，顺顺利利的把东西塞进去就能开到大海上遛弯了？

那是因为，咱最开始的时候，目标就是让海军拥有航母，虽然没有航母，可咱一直在进行技术积累，这底蕴就够了，足够咱把辽宁舰给撑起来。

辽宁舰一出来，跟着有咱自己想法的002航母就出来，但002还是有辽宁舰的影子，可003这完全脱离了辽宁舰的影子，咱想咋弄就咋弄。

这就是技术积累的好处。

您就说吧，前前后后三艘航母，建造的快不快？

咋说呢？荷兰人是挺高兴，一台光刻机能卖一个亿还多的美元，但您要记住了，再好的东西，他生产出来的东西，还得有人用才成。

7nm光刻机整出来的东西是好，但咱被卡了脖子，造出来的东西有足够的人来支撑市场吗？答案是没有！你光靠一个苹果能整出去多少东西？

那么结果呢？市场会决定7nm是否会生存下去的关键，当然这将是一场延时赛，看谁先喊疼了。

他们最好期望，他们喊疼的时候，咱的7nm光刻机还没出来，或者替代东西没有出来。

说道这里估计有人要说了：“你快拉倒吧！人家造光刻机的阿斯麦，压根就是一个组装厂，他是把全世界最最最顶尖的技术整合到一块，装出来的东西，你要整个光刻机出来，你就的拿出最最最最好的技术和人家比，把他们比下去了，你就有可能造出来。人家那是几百年的经验积累！吓到了吧？”

哎！这听的好像很有道理似的。

要俺说，你也别和俺提啥，误差不大于2nm，要在5nm的片子上移动啥的，还有啥软件系统也要纳米级别的。

你要知道，当年咱造原子弹的时候，除了一堆人，和人手一把铁锹，就剩下一片荒芜的戈壁滩，啥都没有。

结果呢？原子弹出来，氢弹出来，而且氢弹这哥们咱是全世界唯一一家可以存储的，其他国家包括美国压根就不会。

从无到有咱都不怕，还怕这个？咱以前拿出一百项东西，全是垫底的存在，现在呢？咱拿出一百项，至少有一半是领先的，再压缩一点四层是领先的，你不否认吧？

这才多少年？你别和俺提啥几百年的积累，这个世界上聪明这东西，咱积累了上下五千年，他们那个国家有这积累。

中国人只要吃饱了饭，还有咱干不了的？

别忘了，之前还有人天天叫嚣什么圆珠笔的小铁球，咱不会造，结果咱整了一锅这玩意，直接就导致了一家造小铁球的厂子倒闭了，因为就这一锅，可以让全世界撑好几年的了，哎！这事弄的，似乎挺尴尬的。

好了，今天就写到这里，喜欢的朋友加个关注，顺手点个赞呦！

《论语》曾言：工欲善其事，必先利其器。

近日美国虽将华为临时许可延长至8月31日，可其却又出新规，凡使用美国芯片制造设备的外国芯片厂，必须经过美国批准才能进行生产，明摆着美国欲切断华为芯片供应链。

虽然华为自主研发的芯片已有明显进展，可其代加工厂台积电如果被美国新规限制，华为又将面临无芯片可用风险。

而华为如果将芯片业务转向中芯国际，可以中芯国际目前技术水平，生产7nm以下的芯片还有些困难，只能胜任华为中端芯片业务。

有人说如果给华为一台EUV光刻机，一切芯片问题都迎刃而解。深以为然，熟知半导体工艺的朋友，皆知集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上蚀刻出来的，由此光刻工艺就决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。那么决定光刻工艺的光刻机就成了制造芯片最关键设备。

我国光刻机龙头企业上海微电子设备公司，目前技术已达到28nm分辨率，虽然能满足国内国防与基础建设需要，可与能生产7nm甚至5nm以下芯片的EUV光刻机相比还有不小差距。

而世界上能生产EUV光刻机只有荷兰阿斯麦独此一家。也许有人会说，我们原子弹都能造出来，光刻机还不是小菜一碟吗？其实光刻机还真不是我们想象的那么简单。

原子弹完全可以凭一国之力研发生产，就如印度、巴基斯坦、朝鲜等小国都已是拥核国家，可想而知原子弹研发并非顶级难度。

而光刻机的技术涉及机电一体化、物理、机械、电气、软件和人工智能六大领域，不是一国科技能力能完成之事。

即便如今在世界光刻机领域一家独大的荷兰阿斯麦公司，亦是集多国高端科技之力，由德国企业提供了精密机械支持和光学技术的支持，美国企业提供了光源的支持和计量技术的支持。

阿斯麦公司成立于1984年，原是飞利浦旗下子公司，主攻研发光刻机，一直在光刻机领域处于领先地位。后随着世界对芯片技术要求提高，阿斯麦公司于2013年研发出使用光源为22nm的EUV光刻机，2017年更先进的使用光源为13nm的EUV光刻机研发成功，使7nm以下（一根头发万分之一）制程的芯片量产成为现实。

自此阿斯麦将竞争对手日本佳能与尼康苟延残喘的境地，在45纳米以下制程的高端光刻机市场中，拥有80%以上的市场份额，而在EUV光刻机领域，市场份额已近100%，处于独家供货垄断的状态，成为世界光刻机领域王者之尊，掌控了世界芯片命脉。

由此EUV光刻机作为制造10nm以下芯片必备设备，因其科技高附加值价格一路走高，每台售价竟达到1.2亿美元，还不是谁有钱就可以买到。

荷兰阿斯麦一招鲜赢天下，不管世界半导体三巨头英特尔、三星、台积电竞争多么激烈，只稳坐钓鱼台坐等收钱，因为三巨头谁也不敢得罪阿斯麦。

当然也有公司不满阿斯麦高价垄断，就如三星就曾想靠商业间谍窃取阿斯麦核心机密，却终未能得，反倒被阿斯麦嘲笑将光刻机送到三星手中二十多年，也未制造出自己的光刻机。

于是当2019年，美国曾污称我国某公司盗取阿斯麦EUV光刻机商业机密时，阿斯麦为此并不以为意，只把我国公司当成第二个三星，即便我国拥有EUV光刻机的图纸，也不可能短时间造出EUV光刻机。

常言道普通公司都是被动跟着别人跑，怎么追都追不上，而伟大的公司都是主动求新求变始终跑在别人前面。

实力就是硬道理，我国半导体企业起步晚，如果想跟上阿斯麦步伐任重道远。借人之智完善自己，我们可以从阿斯麦发展理念中汲取经验教训，但也不能一味追随模仿，只有创造出属于自己的芯片制造标准才是王道。

没有伤痕累累，哪来皮糙肉厚，英雄自古多磨难。回头看，崎岖坎坷；向前看，永不言弃。

我相信凭借我国科研人员硬核专研精神与睿智，不久的将来，我们一定能摆脱光刻机与芯片对外国严重依赖，远离无芯之痛。

从技术难度和供应链体系的角度来说，光刻机的制造更难一点，尤其是高端光刻机的制造，并不是一个国家的制造体系和科研能力能够完成的事情。

先说说原子弹，原子弹制造理论和方法并不复杂，尤其是在上世纪各国纷纷制造出核弹以后，核弹制造的方法已经不是什么秘密，甚至在20世纪70年的时候，美国哈佛大学经济系一个叫林特的学生，仅凭在图书馆专研相关书籍，就写出了400余页的《制造核弹的方法》，而对于这一报告，美国和武器专家都很惊叹，表示这篇报告是他看到的最详细，最全面的报告。

原子弹是制造难度主要是表现在核装置的设计和核燃料的提取，但是这种难度在一个国家的制造体系和科研力量全面支持的情况下，也并非不能克服。比如我们在新闻上经常听到的伊朗和朝鲜核试验的新闻，伊朗和朝鲜的科研水平和工业制造能力不用多说，跟中国相比差的都不是一个等级的事儿，但是他们却都能造出原子弹，可见原子弹的制造难度也真的没那么大。

再来说说光刻机，光刻机是制造芯片的重要装备，光刻机的水平主要是看精度，目前我国能制造的最先进的光刻机也只有14纳米的精度，跟世界上最先进的光刻机还有很大的差距。高端的光刻机作为顶级的生产设备，它集成了上百种最先进的技术，单单是零件就有几万个，而且其中许多零件都非常复杂，科技水准都是世界最先进的水平，单单是这些零部件，仅凭一个国家的科研和制造能力几乎不可能全部造出来。

目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机，其精度可以达到5nm的级别，它所需的零件超过10万个，而且90%以上的零配件都需要从多个国家进口，以EUV所用的镜头为例，全部由世界顶级镜片制造商蔡司提供，他们生产的各种镜头、反光镜和其他光学部件，没有任何一家公司能模仿的来。

所以，光刻机的制造并不是说有图纸就行的，还需要一大堆的拥有各项顶尖技术的供应商的支持，而在这些高端技术背后是一整条高端生产制造产业链，就算是科技水平最高的美国，也没有能力单独完成这高端光刻机的制造。

如果造原子弹的难度是99，那么造光刻机的难度就是9999。

就算荷兰ASML把最先进版本光刻机的图纸公开，也没有任何一个国家能单独造出来，这是不可能的事，可为什么国土面积4.15万平方公里，总人口才1740万的荷兰，却能造出全球最顶尖的光刻机？事实远比你想象的更残酷、更困难。

造原子弹有多少难点？

原子弹的爆炸原理

原子弹的核原料为铀-235和钚-239，爆炸原理是核裂变，例如铀原子受到中子冲击后，会分裂成2~3个原子，并且会额外释放出3~4个中子，这些中子又会去冲击剩余的铀原子，以此类推，循环往复，直到核原料全部被耗尽为止，在此过程中，释放出来的能量就是原子弹的威力来源。

造原子弹难点1：核原料获取不易

原子弹所需的铀-235和钚-239在全球范围内分布十分不均匀，也就是说，有的国家没有或少得可怜，有的国家却很多。

就像很多欧洲国家，领土面积跟我国一个省差不多，他们要发展原子弹，核原料从什么地方获取就是个大问题，即便他们借着发展“核电站”的名义进口核原料也不行，因为国际相关组织会严查进口量和使用量，一旦数据对不上，那么此国偷偷发展原子弹的计划就会暴露无遗。

造原子弹难点2：核燃料提纯浓缩难度大

就算有了核原料，想要将其提纯到93%浓度以上，还是非常困难的，因为相关核心技术都掌握在大国手中，现在浓缩技术一般都用离心法。

离心法的原理是将六氟化铀注入离心机中，通过高速旋转，不断将同位素分离，最后得到浓度越来越高的铀-235，原理跟咱们平常用的洗衣机差不多，都是“甩甩甩”。

首先，离心机属于限制出口产品，其次，数万台离心机同时工作，所产生的巨大声响和惊人的耗电量，都很容易暴露秘密研发原子弹计划，就像伊朗一样，折腾这么多年也没显著成效。

而且还得有起爆模型，这对国家的各方面要求又提高了一大档次，此外，研发原子弹涉及的方面太多，例如一大批杰出的科学家、巨大的研究成本、核试验场地等等，这些都需要钱来支撑，很多国家冒然研发原子弹，很容易把本国经济拖垮，最后还没成功，可谓“赔了夫人又折兵”。

造原子弹难点3：核不扩散条约

1964年，我国第一颗内爆式铀弹“596”引爆成功。

1967年，我国第一颗氢弹引爆成功。

考虑到核武器的恐怖伤害，联合国大会在1959年和1961年，分别通过了《防止核武器更大范围扩散》的议案。

1965年，美国和苏联在日内瓦18国裁军委员会上提出了“防止核武器扩散”，其中规定，在1967年1月1日之前，已经制造出核武器的国家，允许保留，也就是说，美国、苏联、英国、法国和中国这五个国家拥有核武器是遵守合约规定的，但往后其他国家想研发核武器，就是违反了国际公约。

从以上几点看出，一个国家想要研发核武器，得具备人才、资金、技术、军事实力等条件，缺一不可，所以成功研发出核武器确实很难。

造一台光刻机，到底有多难？

光刻机的工作原理是什么？

芯片的本质是一块高度集成的电路板，内部材料为半导体，这种材料需要科学家将硅提纯到99.999999999%。

如此高纯度的硅，在被切割后形成晶圆，也就是芯片的载体基础，一个完整的芯片就是用光刻机，将2000~4500埃的紫外光作为信息载体，把提前设计好完整的线路跟功能区“刻印”到晶圆上。

其中包含表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等一系列工序，芯片越是高端，内部就越复杂，例如英特尔酷睿I7芯片讲，它的晶体管数量高达22.7亿个，又或者台积电AI芯片WSE，它的晶体管数量高达1.2万亿个。

制造一台顶尖光刻机的难度有多大？

目前没有任何一个国家，能够单独制造出最顶尖的光刻机，美国也不行，甚至说差远了，但总人口1740万，国土面积4.15万平方公里的荷兰ASML公司却可以。

很少有人知道的是，光刻机重约180吨，内部起码有10万多个零件，其中有3万多个机械部件和200多个传感器。

这些零部件，每一个都代表着全球最高水平，例如德国蔡司的镜头，同样一枚镜片，蔡司打磨出的镜头比其他公司要优质几十倍，而光刻机对镜头的要求是，即便镜头面积跟地球一样大，但二者的误差不得超过一根头发丝，又或者是美国Cymer公司极紫外光。

而且光刻机的工作环境，还需要真空、无尘、恒温等等，哪怕环境有一丝差错，都有可能功亏一篑，毕竟顶尖光刻机的难度要求是“需要在一粒米上雕刻出一副清明上河图”，机械动作误差为百万分之一秒。

荷兰ASML之所以能造出顶级光刻机，背后完全是整个西方国家在支持，是西方国家400多年工业技术的硕果，毕竟里面涉及到数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。

简而言之，西方国家共同合作，才有了荷兰ASML如今的辉煌，当然造出来的顶级芯片，肯定是西方国家优先，而且还会封锁出口。

可能有人觉得，核武器才是震慑敌国的杀手锏，芯片差点无所谓，实则不然。

如今的军事战斗，早已脱离了一战二战时“笨拙”的局面，各种无人机和洲际导弹层出不穷，背后都离不开芯片。

而且纵观历史，第一次工业革命，蒸汽机代替了手工，英国收益最大。

第二次工业革命，电气化代替蒸气机，德国受益最大。

第三次工业革命，电子计算机代替电气化，美国受益最大。

据各国专家推测，第四次工业革命很大概率是AI智能、互联网领域，而这些领域跟高端芯片紧密相关。

我国芯片发展到什么程度了？

2018年，上海微电子90nm光刻机正式通过验收，我国具备独立自主生产90nm芯片的能力。

目前，我国对于28nm的光刻机的研究制造，基本已经攻破，但什么时候正式大批量生产，还有待官方公布。

虽然28nm前面还有14nm、7nm、5nm、3nm，但28nm的芯片，基本能满足汽车、冰箱、空调、电梯等设备需求，不过28nm芯片对于手机而言，仍然有所欠缺，毕竟手机容量有限。

其实我国的芯片技术早已走在世界前沿，根据相关媒体透露，中芯国际已经突破了7nm芯片技术，也基本掌握了5nm、3nm技术，期待我国自主生产高端芯片的那一天早点到来。

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我既不懂造原子弹，又不懂造光刻机，从技术上回答不明白哪个更难，只好凭着现象来推断。

独立地造出光刻机的国家至今也没有美国。而独立地造出原子弹的国家，不止有美国、中国，连印度、巴基斯坦、朝鲜和伊朗4个国都有，造出光刻机的国家却只有荷兰、日本和中国3个，制造厂加一起共4个，其中，1个为高端+世界顶级，3个为中低端。后3个国无论科技实力还是综合国力都比前4个国强，当然都比美国弱，而且弱很多，不过呢，偏偏没有美国，中国则是3个国中唯一的光刻机独立制造国。即便如此，也似不可以说美国造不出光刻机，肯定不可以说因为没有美国所以造光刻机比造原子弹还难，倒是可以说，对中国而言，独立地造出原子弹和光刻机都不是个难事，早就不是，并且据报道，造出来的光刻机在当时仅比荷兰差1代，厉害不？要说难都难、要说不难都不难，如果一定要回答哪个更难，只能把现象摆出来：在中国，原子弹是用举国之力造出来的，光刻机却不是。

那“为何荷兰有人说图纸给我们也造不出来”光刻机呢？中国已经造出来了，荷兰那个人简直是在瞪眼说瞎话啊！其实应该不是瞎说，如果荷兰真的有人这么说了，肯定是指造高端和世界顶级的光刻机，的确，中国真的还没有造出世界顶级光刻机，连高端光刻机都还没有影呢。对早已量产的中国90纳米光刻机距荷兰的最高水平，现在有人说差10年，有人说差15年、20年，我们国家在制定十三五规划的2016年时认为差15年，所以给出了在2030年达到比肩荷兰的目标。成立于1984年的荷兰ASML是在2017年造出可量产7纳米以下制程芯片的EUV光刻机的，历时33年，而成立于2002年的上海微电子则是在2007年造出了90纳米光刻机，但据报道，9年后——恰好是2016年——才量产，历时14年，当时量产不了是因为造出后就被外国断供了零部件，后来量产了是依靠国内供应链上企业的独立自主研发，从此走上了光刻机整机制造和零部件制造国产化的道路；到2030年，上海微电子造出媲美荷兰的EUV光刻机就是一共用了28年，便是比ASML少用了5年，当然是更快的，关键是将再一次表明中国是更善于攻坚克难的国家。

不能不提到：如果上海微电子在2007年没被断供呢？上海微电子仍然利用外国技术制造光刻机至今，达14年，加上之前的5年共19年，肯定是还没达到ASML今天的水平，即差了1个高端化，同时又差了1个国产化，加一起是中国仍然没有国产化高端光刻机，关键是连国产化的道路都还没有走上，包括还是走在“知其然”的路上，距走到“知其所以然”还差老远了，这是不是赔大了？可以肯定的是上海微电子至今仍然有被断供即被卡脖子的危险，就像今天的中芯国际那样，华为对买国产化光刻机办芯片制造厂这个事就会连想都不会想。自然，外国当时不可能不断供；更不可能给制造高端光刻机的图纸，荷兰的那个人不过是说说而已，心里对美国肯定不会让给、荷兰肯定不能不听从明镜似的，当然，那个人这么说也是因为根本就不了解中国人有多么的智慧、聪明。完全可以肯定，假设给了图纸，中国企业就一定会加速达到高端化。

荷兰得到了世界顶尖配套技术才造出了世界顶级光刻机。这确定无疑，连一开始的低端光刻机都是如此，否则就一定造不出来，等于是遇到了本国根本就解决不了的大难题，至今都解决不了！从开始到现在，荷兰ASML得到了哪些强国的强企所提供的世界顶尖配套技术，也就是与多少家属于美国盟国盟友的光刻机相关技术全球领先企业始终抱成一团，是已知的，不必再复述，那么，上海微电子呢？得不到世界顶尖配套技术也能造出世界顶级光刻机，只因为中国的配套企业必定能够提供相匹配的技术，先前用9个年头研发出了低端的国产化配套技术，再用15年——从现在算起还有10年——研发出高端国产化的光刻机整机技术和配套技术是完全可能的。

文/阿树

最近，关于光刻机的话题可谓是非常火爆，大家都在议论纷纷。这不，最近阿树看到了这样一个讨论，那就是光刻机和氢弹这两个东西，到底谁建造起来更难呢？在看到这个问题的时候，有人肯定会不假思索地说，氢弹会更难一些。但是阿树相信大部分人都难以分别，毕竟这两样都是国之重器，不过，从稀有程度上来说，氢弹中美俄都能搞得出来，但顶尖的光刻机却只有荷兰和日本能搞，所以光刻机自然更加珍贵一些。

不过，阿树今天还真得跟大家好好聊聊，光刻机究竟难在哪。我们都知道，氢弹作为原子弹的进阶版本，对于各方面理论和技术都有非常高的要求，对国家的实力和科研能力都是非常大的考验。所以，氢弹的研发难度也并不低，相反，它的门槛非常高，即便是有核国家也不是轻易能碰得了的，像英国这样的国家，在美国的帮助下，也花了4年之久。不过，氢弹的难点主要集中在前期研发和攻关上，而光刻机则不然，换句话说，这两样东西难倒都挺难的，只不过难的点不一样。

所谓的光刻机，我们可以把它简单理解为类似于胶卷曝光的设备，它是生产集成电路的重要设备。它的大概生产流程是这样的，光刻机会发出光，光通过掩膜之后再由透镜缩小，最后投射到晶圆上。

然后就可以把晶圆泡在特制的化学制剂中，蚀刻出电路，洗干净之后，一大堆集成电路就出现了。听起来是不是特别简单，但是每一种光刻机的实力都是不一样的，低端光刻机大部分国家都有，它的精度比较差，价格也比较便宜。但是高端的光刻机，可以制造5nm级的芯片，而这种高端的光刻机，却只有荷兰和日本有。那么问题又来了，光刻机的哪些技术环节劝退了大部分国家呢？

首先就是光刻机的镜头，这样一块小小的镜头，属实是难住了大部分国家。以荷兰的ASML为例，他们家的光刻机用的是蔡司的镜头，除了蔡司之外，佳能和尼康也都能生产高端的光刻机镜头。但是，除了这几家之外，就鲜有能生产镜头的了。镜头的好坏，将直接决定成品的质量，所以镜头的误差要求非常严格，30厘米的长度上，镜面起伏不能超过0.3纳米。什么概念？这就相当于上千公里的铁路，从头到尾海拔的误差不能超过一毫米。

你以为解决了镜头和其他高难度的技术环节，光刻机的难题就解决了吗？除了技术上的难题之外，光刻机还要面临着盈利和亏损的问题，以及成套的体系化问题。荷兰的ASML固然非常厉害，但阿树刚才也说了，它的镜头是蔡司的，光源则是美国和日本的，除此之外，ASML在全球各地都有服务中心和工程师，一旦出现问题大家一起研究，最后给出一个解决方案，同时解决自家光刻机的难题。长期循环下来，问题不断地被提出，光刻机持续被完善，客户的口碑也积攒下来了。

最终的结果就是，ASML的光刻机质量越来越好，客户越来越愿意买，它的体系遍及五湖四海。而且这个体系并不是谁都有的，就连超级大国美国，也只有眼馋的份。但由于美国是产业的一部分，所以也不担心这些问题。总的来说，这是长期发展和积累产生的优势，而且有一定的先发优势在里面，机器和技术的优势，只是很小的一部分。所以，光刻机到底是怎么回事，荷兰已经给了我们答案。当然，我们对光刻机还有一个非常重要的需求，那就是形成产业链，并且实现收益，最终实现产业的整体升级。

无论是氢弹还是航母，亦或是火箭，这些涉及到国家战略的东西，成本和收益根本不在考虑范围之内，因为它的用途和光刻机就完全不同。如果非要阿树类比的话，光刻机就相当于印钞机，印出来的芯片就是钞。如果不能实现芯片批量生产，那么再好的光刻机也没有意义。所以，别人卡我们的脖子不会仅仅通过光刻机来卡，还会从芯片上卡，尤其是高端芯片和高端光刻机。而外界卡我们脖子的最终目的，是为了阻止我们的产业升级。

而且，着急是没有用的，我们现在看到的光刻机技术，基本都是面对科技和民用领域的，军用领域和国家战略领域，这方面完全不用愁，高铁就是一个非常显著的例子，我们的高铁芯片完全能实现自主化。而面对民用领域和全球市场的光刻机以及芯片技术，光突破技术是不行的，必须要瞄准全球市场和规律，并且狠下心来投资，这些投入要远比单纯开发先进的光刻机重要。

从技术来说肯定光刻机更难。原子弹只要理论懂了造出来不难，像朝鲜、巴基斯坦、印度都不是发达国家，也没有先进的工业体系，但都造出了原子弹。

而光刻机不同，它有几万个零部件，涉及机械、电子、光学、仪器、化学、材料学等几十个学科门类，堪称人类科学的集大成者！即使是asml公司也不是独自完成的制造任务，它有几万家直接和间接的供应商，asml更像是牵头人，课题组组长，带领相关人才和企业一同完成研发和制造任务。

从技术难度来说，光刻机比原子弹难无数倍！

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原子弹是军事领域的战略重器，光刻机是制造业领域的战略重器，两者虽然差别大，但地位一样重要。如果从技术难度和学科复杂程度来看，毫无疑问，光刻机的难度要高于原子弹。至少在当今世界上，还没有哪个国家仅凭自身的力量彻底解决光刻机需要的所有技术问题和零部件生产工艺难题。荷兰阿斯麦光刻机是国际技术合作的结果，并不是美国一国的技术实力。美国的精明之处在于，它提前看到了阿斯麦这家企业的价值，掌握了该企业的大部分股权。

原子弹在问世之初，也经历了复杂的技术探索。美国的绝密“曼哈顿工程”汇集了美国优秀的核物理及材料、化学等各领域专家，历经多年才取得成功。原子弹是建立在爱因斯坦重要理论之上的应用技术。研制原子弹的关键在于核设备和核原料，二战时期德国其实已经掌握了原子弹的基本技术，但缺乏核原料，运输浓缩铀的船被盟军袭击，这才压制住了德国的反扑计划。

二战结束后，随着核技术和核材料的扩散，拥核国开始变多。印度和巴基斯坦这两个科技实力不强的国家也掌握了原子弹技术，成为拥核国。伊朗实际上也具备制造核武器的能力。国际社会及时制定规则，防范核扩散，这才避免了核武器的大范围出现，降低了核大战的风险。由此可见，核技术只要突破了关键技术门槛，大部分中等国家都可以研制。

而光刻机就不同了，目前全球技术实力最强的光刻机企业是荷兰阿斯麦。它原来是百年老店飞利浦旗下的一家公司，专业制造光刻机。这家公司生产的高端EUV光刻机设备领跑全球，是国际上唯一能够解决7纳米及以下光刻工艺的专业机器。拥有了高端EUV光刻机，才能在晶圆上蚀刻出高技术水平的集成电路晶体管。它会直接决定半导体线路的线宽，影响芯片性能和功耗。我们熟知的台积电，就是一家1987年成立的晶圆加工企业。由于它用的是荷兰公司的光刻机，这家荷兰公司又被美国实际控股，所以美国要求台积电断供。台积电虽然拖延了些时日，但华为的芯片供应还是出了问题，高端麒麟芯片无法再生产了。

这架荷兰企业由于其特殊的地位，它融汇了欧洲很多技术企业的技术成果。其中有德国蔡司公司的光学仪器，以及其他公司的高精度机械设备，美国公司的光源技术和计量技术。这家企业很好的整合多方技术和资源，最终推出了先进7纳米级光刻机，垄断了高端光刻机产业。目前国内在光刻机领域发展较好的是上海微电子，技术能达到28纳米，差距还比较大。

光刻机需要整合材料、机械、电气、软件、AI以及机电一体化等诸多技术领域，一个国家很难在这么多领域都达到世界级水准。研究这些技术需要投入巨额资金，堪称天文数字，即使是美国，也难以独自解决所有问题。

因此相比于原子弹，光刻机难度要更大一些。比较实际的选择只能是逐渐积累技术，在各行各业繁荣发展，国家经济健康增长的前提下。慢工出细活，争取在未来解决光刻机技术难题。

造原子弹和光刻机哪个更难？为何荷兰有人说图纸给我们也造不出来？

2002年，中国成立上海微电子装备(集团)股份有限公司SMEE，当时的总经理贺荣明去德国考察时，当时有德国工程师告诉他：“给你们全套图纸，也做不出来。”

这话说的夸张吗？一点都不夸张！目前一台高端的光刻机整机光包含曝光系统、工件台掩模台系统、自动对准系统、调焦调平测量系统、掩模传输系统、硅片传输系统、环境控制系统、整机框架及减振系统、整机控制系统、整机软件系统等，这些零部件有很多都是定制的，甚至有一些零部件都需要工程师经过机械慢慢打磨出来。

光刻机绝对是世界顶尖光学、电子等高精尖技术的结晶，连ASML本身有很多零部件他们自己也无法生产，很多高端零部件都是从美国、德国、日本等国家进口的，比如目前ASML的镜头是由德国的蔡司提供，电源是由美国的一家公司提供。

曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的，他说：“光刻机的一个小零件，工程师就需要调整高达十年之久，就连尺寸的调整就要高达百万次以上。”

也就是说，想制造出一台优秀的光刻机，不光有图纸，还需要一大堆顶尖技术和顶尖供应商的支持，需要一条顶尖科技产业链的支持，需要光学、电子、机械等多部门的共同协作，就算如今科技水平领先的美国，也没有办法独立设计制造一台高端/超高端光刻机。

而中国此时依然面临着欧美国家严密的技术封锁，甚至连购买成品光刻机都时刻会被欧美国家卡脖子，可见光刻机的重要性。

想弯道超车基本就是痴人说梦，只能踏踏实实积累技术。

那中国有自己的光刻机企业吗？有，上海微电子装备(集团)股份有限公司，已经有能力生产制造600扫描光刻机系列、500步进光刻机系列等光刻机的能力，但生产的依然是中低端产品，在高端超高端市场上，中国没有此类产品，而且市场都被AMSL、尼康和佳能垄断，英特尔、三星、海力士、台积电、中芯国际等公司都在采购AMSL的光刻机。

国内最先进的制程还停留在14nm水平，这也是在去年年底才量产。即使是普通的7nm工艺光刻机，恐怕也要等到2021年才有可能交付。

至于原子弹的制造实际上已经不是什么秘密，早在20世纪70年的时候，美国哈佛大学经济系一个叫林特的学生，仅凭在图书馆专研相关书籍，就写出了400余页的《制造核弹的方法》；美国的天才高中生14岁就在家里造出核反应堆。

如今你上网搜，原子弹教程清清楚楚挂着。

原子弹的制造难度主要是原子弹的小型化上。站在国家层面上，只要集中科研攻关，都不是大难题，当年中国一穷二白，靠人驮马拉在戈壁滩建立了核试验场，靠算盘子打出了原子弹的计算公式，而朝鲜、伊朗等国也先后试爆了自己的核装置。

但中国已经成功将核武器小型化，完全实现了一箭多弹，东风41型洲际弹道导弹可携带6-10枚分导式核弹头。

所以说，相比光刻机，原子弹真的太简单了。

即便光刻机再难，相信坚韧不拔的中国人一定能攻克这一难关。

开什么玩笑？只要读过高中物理的学生，都可以把原子弹的原理和制作过程随便讲解个八九不离十，在头条里到处可见有图有真相的原子弹制作原理的视频和文章，但是有谁见过能将光刻机的原理三言两语讲清楚的吗？有谁见过讲解光刻机制作过程的视频和文章吗？显然两者之间的制造难度不在一个等量级上，光刻机才代表了现代科技的最高制造水平，并且没有之一。

说通俗一点，原子弹只要能满足可以提炼纯度达90％以上的军事用途核燃料，其中铀235达到15千克以上，钚239达10千克以上就可以满足原子弹爆炸的临界质量，然后利用炸药引爆激发中子撞击核原料产生链式反应，就可以形成原子弹爆炸了。连朝鲜和巴基斯坦这样的不属于世界强国的国家都可以鼓捣出来，可想而知它的制造难度就不会太高深，也就一般科技水平吧，只不过它的威力太过于强大而具备了神话色彩吧。

而光刻机则不同，它是在纳米级的材料上刻录芯片的机器，有了它才会有像麒麟芯之类的高科技产品诞生，本来芯片就已经是当代最高科技产品了，而用来刻录这种最高科技产品的制造机器，你们能想象得出它们又有多高科技吗？不过荷兰说即使给我们光刻机制作图纸，都量我们制作不出来的话似乎有些偏颇、太瞧不起人了，既然他们能这么自信不防就给我们试试，看看我们究竟能否制造出来？

其实我国这些年也深知在光刻机这样的顶级科技技术上技不如人，但是我们好歹也是能自己制作90纳米级光刻机的国家，跟荷兰的差距是它们竟然能制作7纳米级的光刻机，不得不说荷兰的光刻机已经代表了全球最高科技水平，确实值得我们膜拜和学习好多年。不过我还是那句话，如此瞧不起中国，有本事真的把制作图纸交给我们试试，只有这样才能对你们说的话负责任。对此，你们怎么看呢？